MachineU > Productos de China
Limpiador de obleas de silicio semiconductor - Limpieza ultrasónica alcalina/ácida de 40KHz-80KHz + Enjuague con UPW, 60℃
Limpiador de obleas de silicio semiconductor - Limpieza ultrasónica alcalina/ácida de 40KHz-80KHz + Enjuague con UPW, 60℃
Especificaciones
Número de modelo :
Se trata de un sistema de control de las emisiones de gases de escape.
Lugar de origen :
Dongguan, Guangdong
Cantidad mínima de pedido :
1
Payment Terms :
T/t
Capacidad de suministro :
Una unidad, tardará de 30 a 60 días.
Tiempo de entrega :
Entre 30 y 60 días hábiles
Detalles del Embalaje :
Embalaje: Caja de madera, marco de madera, película estirable. Dimensiones: 12M*2M*2.8M
Tipo :
Lavado alcalino por ultrasonidos+Lavado con ácido por ultrasonidos+Lavado con agua pura
nombre :
Máquina de limpieza de semiconductores
Modelo :
Se trata de un sistema de control de las emisiones de gases de escape.
Dimensiones generales :
12M*2M*2.8M
Frecuencia de limpieza :
Las emisiones de gases de efecto invernadero se determinarán en función de las condiciones de emisió
Potencia :
120kW
Temperatura de limpieza :
60 °C
Número de tanques :
10
Descripción
Introducción del Producto: Limpiador de Obleas de Silicio Semiconductor​
Una solución de ingeniería de precisión para la fabricación de semiconductores, este sistema de limpieza ultrasónica integra procesos de múltiples etapas para lograr una pureza superficial a nivel submicrónico en obleas de silicio, lo cual es fundamental para mantener el rendimiento del dispositivo en la fabricación de nodos avanzados (hasta 5 nm).​
Etapas de Limpieza Secuenciales:​
  • Fregado Ultrasónico Alcalino: Emplea cavitación ultrasónica de 40KHz-80KHz en un baño alcalino para descomponer contaminantes orgánicos, eliminar residuos de fotorresistente y desprender macropartículas (≥1μm) de las superficies de las obleas y las estructuras de vías. La energía ultrasónica de frecuencia ajustable garantiza una limpieza uniforme en diámetros de obleas de 4"-12", incluidas las zonas de exclusión de bordes.​
  • Grabado Ácido Ultrasónico: Utiliza el mismo rango de frecuencia en medios ácidos para disolver impurezas inorgánicas, específicamente iones metálicos (Fe, Cu, Zn) y capas de óxido nativo (SiO₂). Los microchorros de cavitación penetran en las características con patrones para eliminar contaminantes incrustados de menos de 100 nm, validados por lecturas de contadores de partículas (≤10 partículas/oblea para ≥0,1μm).​
  • Enjuague con UPW: Enjuague final con agua ultrapura (UPW, TOC ≤5ppb) para eliminar las químicas residuales, logrando una resistividad superficial ≥18.2MΩ·cm, cumpliendo con los estándares SEMI F20 para la limpieza previa a la deposición.​
Parámetros del Proceso:​
  • Banda de Frecuencia: 40KHz-80KHz (operación multifrecuencia, seleccionable a través de HMI para ajuste específico de contaminación)​
  • Punto de Ajuste de Temperatura: 60℃ (controlado por PID, tolerancia ±1℃) para optimizar la cinética de la reacción química sin inducir deformación de la oblea.​
  • Compatibilidad de Materiales: Componentes humedecidos en PFA (perfluoroalcoxi) y zafiro para evitar la lixiviación de iones metálicos, asegurando cero contaminación cruzada.​
Ventajas de la Integración en la Fab:​
  • Compatible con la carga de cápsulas FOUP/SMIF para el manejo automatizado de casetes, reduciendo la intervención humana​
  • Diseño de clase sala limpia (ISO 5) con escape filtrado por HEPA para mantener el cumplimiento del entorno Clase 1​
  • Almacenamiento de recetas para más de 50 protocolos de limpieza, adaptable a obleas desnudas, obleas SOI y epi-wafers​
Aplicación: Esencial para la limpieza previa a la litografía, posterior a CMP y posterior al grabado en líneas de fabricación de lógica, memoria y MEMS.​
Palabras Clave: Limpiador ultrasónico de obleas semiconductoras, limpieza secuencial alcalina-ácida, enjuague con UPW, proceso de 40-80KHz, 60℃, descontaminación submicrónica

Limpiador de obleas de silicio semiconductor - Limpieza ultrasónica alcalina/ácida de 40KHz-80KHz + Enjuague con UPW, 60℃Limpiador de obleas de silicio semiconductor - Limpieza ultrasónica alcalina/ácida de 40KHz-80KHz + Enjuague con UPW, 60℃

Limpiador de obleas de silicio semiconductor - Limpieza ultrasónica alcalina/ácida de 40KHz-80KHz + Enjuague con UPW, 60℃

Limpiador de obleas de silicio semiconductor - Limpieza ultrasónica alcalina/ácida de 40KHz-80KHz + Enjuague con UPW, 60℃

Limpiador de obleas de silicio semiconductor - Limpieza ultrasónica alcalina/ácida de 40KHz-80KHz + Enjuague con UPW, 60℃

Limpiador de obleas de silicio semiconductor - Limpieza ultrasónica alcalina/ácida de 40KHz-80KHz + Enjuague con UPW, 60℃

Envía tu mensaje a este proveedor
Envía ahora

Limpiador de obleas de silicio semiconductor - Limpieza ultrasónica alcalina/ácida de 40KHz-80KHz + Enjuague con UPW, 60℃

Pregunta el precio más reciente
Ver el video
Detalle del producto
Número de modelo :
Se trata de un sistema de control de las emisiones de gases de escape.
Lugar de origen :
Dongguan, Guangdong
Cantidad mínima de pedido :
1
Payment Terms :
T/t
Capacidad de suministro :
Una unidad, tardará de 30 a 60 días.
Tiempo de entrega :
Entre 30 y 60 días hábiles
Proveedor de contacto
El video
Limpiador de obleas de silicio semiconductor - Limpieza ultrasónica alcalina/ácida de 40KHz-80KHz + Enjuague con UPW, 60℃

guangdong Jietai Ultrasonic cleaning Equipment Co., Ltd.

Active Member
1 Años
guangdong, dongguan
Desde 2005
Productos principales :
Equipo de limpieza por ultrasonidos, Limpiador ultrasónico de electrónica, Limpiador ultrasónico de instrumentos
Total anual :
4,397,596.73-6,397,596.73
Número de empleados :
460~500
Nivel de certificación :
Active Member
Descubre productos similares
Ver más

Encuentra productos similares por categoría:

Página de inicio del proveedor Productos Máquina de limpieza de semiconductores
MachineU Productos de China
Proveedor de contacto
Requisito de presentación