Máquina de limpieza por ultrasonido totalmente automática para obleas de silicio semiconductoras

1. Máquina de limpieza por ultrasonido totalmente automática para obleas de silicio semiconductoras

   La limpieza de precisión redefinida para la fabricación avanzada de semiconductores

   Resumen del producto

   Diseñado para satisfacer los requisitos de limpieza ultra elevados de las obleas de silicio semiconductores, elSe trata de un sistema de control de las emisiones de gases.es un sistema de limpieza por ultrasonidos totalmente automático que combina tecnología de vanguardia con automatización inteligente.residuos orgánicosCon un diseño modular de 10 tanques y materiales compatibles con SEMI, el sistema de calibración de las partículas de aluminio se utiliza para la fabricación de un sistema de calibración de las partículas de aluminio.que ofrece consistente, resultados repetibles para la limpieza crítica previa y posterior a la fabricación.

   Funciones básicas y excelencia técnica

   1.Proceso de limpieza por ultrasonidos en varias etapas

   • Cavitación de alta frecuencia de 40 kHz:
     Genera microburbujas que implosionan en las superficies de las obleas, desalojando partículas tan pequeñas como 0,2 μm sin contacto físico.y óxidos nativos de materiales semiconductores delicados.
   • Flujo de trabajo integrado de 10 depósitos:
     • Tanques 1 y 2: Prelavado con agua de DI y agitación megasónica para aflojar los desechos pesados.
     • Tanques 3 a 6: Limpieza por ultrasonido con soluciones químicas (por ejemplo, SC1/SC2 para la limpieza por RCA) a 60 ̊100 °C para eliminar los contaminantes orgánicos e iónicos.
     • Los tanques 7-9: Rince con agua DI en varias etapas con ultrafiltración (0,1 μm) para evitar la contaminación cruzada.
     • El tanque 10: Sistema de secado rápido DryN2TM con nitrógeno calentado (≤ 5% RH) para obtener superficies libres de manchas y estáticas.

   2.Control inteligente totalmente automatizado

   • Interfaz PLC + HMI:
     La pantalla táctil de 15 pulgadas permite la programación de más de 100 recetas personalizadas, el monitoreo en tiempo real de los parámetros (temperatura, potencia ultrasónica, velocidad de flujo del enjuague) y el seguimiento de OEE (Eficacia General del Equipo).
   • Manipulación de obleas robóticas:
     El brazo robótico de precisión con pinzas recubiertas de teflón garantiza una transferencia suave y segura de la oblea (velocidad ≤ 1,5 m / s) entre los tanques, minimizando la generación de partículas y la rotura.

   3.Diseño de materiales de alta pureza

   • Componentes mojados:
     Tanques y boquillas construidos con acero inoxidable 316L electropolinizado (Ra < 0,2 μm) y PTFE, eliminando la lixiviación de iones metálicos y la corrosión química.
   • Filtración en bucle cerrado:
     Los sistemas de filtración de recirculación con filtros de membrana de 0,1 μm y oxidación UV reducen el consumo químico en un 60% y aseguran la pureza del líquido de limpieza (TOC < 5ppb).

2.