Limpieza de obleas de semiconductores, limpieza alcalina por ultrasonidos + limpieza ácida por ultrasonidos + enjuague con agua pura

Ventajas técnicas esenciales

I. Sistema de limpieza por gradiente de tres depósitos

1. Tanque de limpieza alcalina por ultrasonidos (pH 10-13)

Parámetros técnicos:

▶ Frecuencia: 80kHz/120kHz Conmutación de doble frecuencia (apoya ultrasonido pulsado) ▶ Material del tanque: revestimiento modificado de PTFE + marco de acero inoxidable de 316L (resistencia a altas temperaturas de 130°C,Resistencia a la corrosión por NaOH / amoníaco)

▶ Medio de limpieza: solución alcalina como el hidróxido de potasio (KOH), el hidróxido de tetrametilamonio (TMAH), etc.

Funciones principales: ✔ Eliminación eficiente de residuos de fotoresistencia: destrucción del enlace molecular de la película adhesiva mediante efecto de cavitación, junto con un control de temperatura constante de 50-80 °C,eliminando el 990,9% de SU-8 / fotoresistente positivo en 15 minutos

✔ Captura de partículas contaminantes: cartucho de PP de tamaño micron (5μm) + filtro magnético (captura de Fe/Co y otras partículas metálicas). ✔ Filtración en tiempo real de los residuos de limpieza

2. Tanque de limpieza de ácidos por ultrasonidos (pH 1-3)

Parámetros técnicos:

▶ Frecuencia: ultrasón de alta frecuencia de 150 kHz (reduzca el tamaño de las burbujas de cavitación para minimizar el daño en la superficie de la oblea)

▶ Material del tanque: Revestimiento de resina perfluoroalcóxica (PFA) (resistente a HF). Revestimiento de PFA (resistente a ácido mixto HF/HNO3)

▶ Medio de limpieza: BOE buffer oxide etant (HF:NH4F=1:6), agua regia (HNO3:HCl=1:3)

Funciones básicas:

✔ Profundidad de eliminación de iones metálicos ✔ Control de la rugosidad superficial: para el residuo de electrodos de Al/Cu, mediante grabado ácido + vibración ultrasónica, se obtiene residuo de Na+/K+ <1010 átomos/cm2

✔ Control de la rugosidad de la superficie: potencia ultrasónica ajustada dinámicamente (50-300W), junto con la precisión del control de la temperatura ± 0,5 °C, para garantizar que el valor de la superficie de la oblea Ra ≤ 0,2 nm

3. Tanque de enjuague megasónico de agua pura (resistividad ≥ 18,2 MΩ·cm)

Parámetros técnicos:

▶ Frecuencia: ultrasonido MF de 850 kHz (umbral de cavitación > 200 μm, para evitar daños por impacto de líquido)

▶ Monitoreo de la calidad del agua: detector TOC en línea (precisión de detección ≤ 5ppb) + contador de partículas (detección de tamaño de partícula de 0,1 μm)

▶ Método de enjuague: enjuague en contracorriente (tasa de utilización del agua pura aumentada al 85%) + cavitación megasónica (desprendimiento de partículas submicrónicas)

Características principales:

✔ Limpieza libre de residuos: Adopte la filtración de agua DI en tres etapas (carbono activado + membrana RO + resina de pulido), con una tasa de desbordamiento de 50L/min, para lograr un residuo de TOC <10ppb en 10 minutos

✔ Limpieza mejorada por el borde: brazo de rotación de pulverización patentado (velocidad ajustable de 0 a 300 rpm), para resolver el punto ciego de limpieza de un área de 1 mm en el borde de la oblea.

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