I.Resumen general
Los sistemas de ultrafiltración (UF) desempeñan un papel clave en el pretratamiento en la preparación de agua ultrapura (UPW) para electrónica y semiconductores mediante la eliminación eficiente de partículas,Coloides y microorganismos, protegiendo la posterior ósmosis inversa (RO) y las resinas de intercambio iónico, y asegurando que el agua producida cumpla con el estándar de resistividad de 18,2 MΩ-cm.
II.Proceso principal
Agua municipal/agua superficial → Filtración multimedia → Adsorción de carbono activado → Sistema de ultrafiltración → Osmosis inversa (RO) → EDI/CDI → Lecho mixto de pulido → Agua ultrapura
III.Parámetros básicos del sistema de ultrafiltración
Parámetro | Norma de grado electrónico | Comparación de los grados industriales generales | ||||
Material de membrana | PVDF (modificación hidrófila) | El PSE general | ||||
Tamaño del poro | 0.01 ∼0.03 μm | 00,05 ∼0,1 μm | ||||
Agua del producto SDI15 | ≤ 10 | ≤ 3 años0 | ||||
Tasa de eliminación del TOC | > 50% (agua de entrada < 100 ppb) | < 30% | ||||
Control de las bacterias | < 1 UFC/100 ml | < 10 UFC/mL |
IV.Puntos clave para la selección del equipo
Tipo de componente | Ventajas | Escenarios aplicables | |||||
Presión externa Fibra hueca | Alto flujo (60-100 LMH), fácil de limpiar | Fabricación de obleas a gran escala (≥ 1000 toneladas/día) | |||||
Membrana espiral de presión interna | Estructura compacta, pequeño volumen muerto | Fabrica de envases de semiconductores a pequeña escala | |||||
Membrana de ultrafiltración cerámica | Resistente a la limpieza con ácidos y álcalis fuertes (pH 1-14), vida útil de 10 años | Fuentes de agua con alto riesgo de TOC/metales pesados |
V. Los sistemas de ultrafiltración son tres veces irreemplazables en la preparación de agua ultrapura mediante semiconductores
La rigidez:
la única tecnología que cumple simultáneamente el SDI<1, el TOC<2 ppb y el CFU bacteriano <1
Optimización económica:
Reducción del 40% en el coste total de propiedad en comparación con el pretratamiento químico puro (análisis LCOE a 10 años)
Garantía del proceso:
Asegura una tasa de defectos de < 0,1 defectos/cm2 para procesos avanzados de hasta 28 nm
VI.Aquí hay una guía para obtener una cotización adecuada
Indique el agua cruda/fuente de agua ((agua de grifo, agua de pozo o agua de mar, etc.)
Proporcionar un informe de análisis del agua ((TDS, conductividad o resistividad, etc.)
Capacidad de producción requerida ((5m3/h, 50m3/h, o 500m3/h, etc.)
¿Para qué se utiliza el agua pura?