Equipo de medición de precisión y inspección industrial

Estas bases de soporte cerámico de alúmina se fabrican con material Al2O3 de alta pureza al 99,6%, diseñado específicamente para equipos de medición de semiconductores, ópticos y de precisión.con una altura de más o menos 0,01 mmLos productos, con un coeficiente de expansión térmica de 7,2×10−6/°C, mantienen una estabilidad dimensional excepcional en temperaturas extremas (-60°C~1500°C) y ambientes de vacío (≤10−8Pa).

Áreas de aplicación principales

• Equipo de semiconductores: Etapas de las obeliscas de litografía, bases de las cámaras de los reactores de grabado

• Óptica de precisión: plataformas de referencia de interferómetro láser, monturas para espejos de telescopios espaciales

• Instrumentos analíticos: Estadios de muestreo por microscopio electrónico, soportes de fuente iónica de espectrómetro de masas

• Inspección industrial: bases de las máquinas CMM, placas giratorias de prueba de redondez

• Nueva energía: Soportes para pilas de combustible, soportes para equipos de recubrimiento fotovoltaico

Matriz de ventajas de rendimiento

Especificaciones técnicas

Proceso de fabricación de precisión

1. Procesamiento de polvo: polvo de alta pureza de 0,1 μm con granulación por pulverización

2. Proceso de formación: Presión isostática (300MPa) combinada con mecanizado en verde CNC

3. Tecnología de sinterización: Sinterización por gradiente a 1700°C en atmósfera de hidrógeno

4. Mecanizado de precisión:

   • Las partidas de las máquinas de la partida 8545 incluyen las partidas de las máquinas de la partida 8545

   • Polido magnetorreológico (precisión de la superficie λ/20@632.8nm)

5. Procesamiento en salas limpias: El montaje terminado en la sala limpia de la clase 100

6. Inspección completa: Interferómetro láser + CMM inspección dimensional completa

Directrices para la instalación

• Requisitos de instalación:
  ✓ Utilice una llave de torsión (valor recomendado 1,5 ± 0,2 N·m)
  ✓ Utilice herramientas específicas para salas limpias
  ✓ Preajuste recomendado de la correspondencia térmica (gradiente de temperatura < 2°C/min)

• Limitaciones ambientales:
  Evite el contacto con el ácido fluorhídrico
  ¢ Evitar las descargas térmicas > 200°C/min
  No adecuado para entornos de oxidación continua > 1600 °C

Compromiso de servicio

• Apoyo técnico: Análisis de tensión gratuito de la FEA

• Respuesta rápida: servicio acelerado de 72 horas

• Gestión de la trazabilidad: Registros de producción completos de 10 años

• Apoyo a la certificación: Se proporcionan los documentos de certificación SEMI/FDA/ISO

Preguntas frecuentes

P: ¿Cómo garantizar la compatibilidad térmica con los componentes de carburo de silicio?
A: Disponible el diseño de transición de gradiente CTE (ajustable entre 7,2 y 4,5 × 10−6 °C)

P: ¿Dimensiones máximas procesables?
A: Límites técnicos actuales de 500×500×100 mm (se requiere herramienta especial)

P: ¿Se admite la modificación de conductores?
A: versiones antistáticas personalizables con resistencia superficial de 104-1010Ω

P: ¿Cómo se garantiza la limpieza a nivel de las obleas?
A: Esterilización final con VHP (peróxido de hidrógeno vaporizado)