Productos de alúmina personalizados para componentes de alta temperatura y resistentes a la corrosión

Nuestros componentes cerámicos de alúmina de alta precisión utilizan material Al₂O₃ ultrapuro (pureza ≥99,6%) diseñado específicamente para aplicaciones de instrumentación de precisión. Con un acabado superficial a nivel de nanómetros (Ra≤0,05μm) y una precisión dimensional a nivel de micras (±0,005 mm), estos componentes cumplen con los requisitos más exigentes en equipos de semiconductores, instrumentos ópticos y dispositivos médicos.

Aplicaciones clave

• Fabricación de semiconductores: Brazos de manipulación de obleas, revestimientos de cámaras de vacío, boquillas de plasma

• Instrumentación óptica: Monturas de espejos láser, conjuntos de ranuras de espectrómetros, plataformas de referencia de interferómetros

• Equipos de análisis médico: Fuentes de iones de espectrómetros de masas, columnas cerámicas cromatográficas, módulos de ciclo térmico PCR

• Investigación científica: Bridas UHV, plataformas experimentales criogénicas, óptica de radiación de sincrotrón

• Metrología industrial: Puntas de sonda CMM, bloques de referencia de perfilómetros de superficie, plataformas giratorias de probadores de redondez

Características destacadas

✨ Mecanizado de ultraprecisión: Precisión del perfil ≤0,1 μm, tolerancia angular ±5 segundos de arco
✨ Estabilidad excepcional: CTE 7,2±0,1×10⁻⁶/℃ (20-100℃)
✨ Superficie ultralimpia: Contenido de iones metálicos <1ppm
✨ Personalización funcional: Zonas conductivas/aislantes/antiestáticas integradas
✨ Resistencia ambiental: Tolerancia a la radiación >10⁶Gy, tasa de desgasificación <10⁻¹¹Pa⋅m³/s

Especificaciones técnicas

Proceso de fabricación de precisión

1. Procesamiento de polvo ultrafino: Granulación por pulverización de polvo de alúmina de 50 nm

2. Prensado isostático: Prensado isostático en frío a 200 MPa

3. Sinterización en atmósfera: Sinterización en atmósfera de hidrógeno a 1700℃

4. Mecanizado de ultraprecisión: Electroerosión por hilo lento de 5 ejes + rectificado con diamante

5. Procesamiento en sala limpia: Limpieza ultrasónica Clase 100

6. Inspección completa: Interferometría de luz blanca + verificación dimensional completa CMM

Uso y mantenimiento

➤ Utilice herramientas de sala limpia dedicadas y guantes ESD durante la instalación
➤ Temperatura de funcionamiento recomendada: -60℃ a 450℃
➤ Evite medios corrosivos fuertes (HF, ácido fosfórico caliente, etc.)
➤ Se recomienda la limpieza con plasma cada 500 horas de funcionamiento
➤ Condiciones de almacenamiento: 22±1℃, 45±5% HR

Compromiso de servicio
✔ Consultoría técnica de aplicaciones gratuita
✔ Servicio de pedido urgente en 72 horas
✔ Trazabilidad del rendimiento del producto durante 10 años
✔ Opciones de embalaje en sala limpia + envío con purga de nitrógeno

Preguntas frecuentes técnicas

P: ¿Puede cumplir con los estándares de superficie óptica ISO-10110?
R: Capaz de planitud óptica λ/20@632,8nm

P: ¿Ofrecen soluciones cerámicas conductoras?
R: Resistencia superficial personalizable 10⁴-10¹⁰Ω

P: ¿Dimensiones máximas de una sola pieza?
R: Capacidad actual 300×300×50 mm (ensamblajes más grandes disponibles)

P: ¿Cómo se garantiza el rendimiento UHV?
R: El proceso de sinterización especial logra una menor desgasificación que la mayoría de los metales