I.Resumen general
El agua ultrapura es un componente esencial indispensable en las soluciones de pulido por pulido mecánico químico (CMP).con una puridad que determina directamente el rendimiento de la solución de pulido y el rendimiento de las astillasEn la fabricación de semiconductores, las soluciones de pulido CMP deben cumplir con los requisitos de planarización a nivel de nanómetro.El agua ultrapura juega un papel crítico y cumple con estrictos requisitos técnicos en esta aplicación..
En las soluciones de pulido CMP, el agua ultrapura no es solo un disolvente sino también un componente activo que determina la uniformidad de pulido, las tasas de defectos y la confiabilidad de los chips.Un sistema de agua ultrapura conforme a la norma SEMI F63-1109 es la piedra angular para lograr una tasa de rendimiento superior al 95% en procesos avanzados (7 nm y menos).

II.Proceso estándar
Municipal Tap Water → Pretreatment (Multi - media Filtration) → Activated Carbon Adsorption (Residual Chlorine Removal) → Two - stage RO → EDI (Electrodeionization) Continuous Deionization → Mixed Bed Polishing → 185/254nm UV→ 0.05μm Ultrafiltración → Membrana de desgasificación → Nitrógeno - Tanque de almacenamiento sellado → Tubo de acero inoxidable de 316L → Línea de producción de lodos de CMP

III.Parámetros

IV.Las funciones principales del agua ultrapura en el fluido de pulido CMP
Portador del disolvente
Medio de reacción
Control de los contaminantes

V. Aquí hay una guía para que usted obtenga una cotización adecuada
Indique el agua cruda/fuente de agua ((agua de grifo, agua de pozo o agua de mar, etc.)
Proporcionar un informe de análisis del agua ((TDS, conductividad o resistividad, etc.)
Capacidad de producción requerida ((5m3/h, 50m3/h, o 500m3/h, etc.)
¿Para qué se utiliza el agua pura?