Los objetivos de pulverización de metales se utilizan en procesos de deposición física de vapor (PVD) para revestir materiales con una capa fina de metal.cromo, zirconio, níquel, niobio, tántalo y molibdeno.
Punto de trabajo | La pureza | Densidad | Color del revestimiento | Forma de las piezas | Tamaño estándar | |
Objetivo de aleación de titanio y aluminio (TiAl) | Las demás: | 3.6 a 4.2 | Oro rosa/café/champaña | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm |
Revestimiento decorativo PVD & revestimiento duro |
El cromo puro (Cr) objetivo | 2N7-4N | 7.19 | gris/negro de pistola | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
Objetivo de titanio puro (Ti) | Las demás: | 4.51 | Oro/oro rosa/azul/arco iris/negro claro/gris pistola | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
Objetivo de Zirconio puro ((Zr)) | 2N5-4N | 6.5 | oro claro | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
Objetivo de aluminio puro (Al) | 4N-5N | 2.7 | de plata | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
Objetivo de níquel puro (Ni) | 3N-4N | 8.9 | el níquel | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
Objetivo de niobio puro (Nb) | 3N | 8.57 | de color blanco | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
Objetivo de Tántal puro (Ta) | 3N5 | 16.4 | negro/puro | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
Objetivo de molibdeno puro (Mo) | 3N5 | 10.2 | negro | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
Observaciones: El tamaño puede ser personalizado según los requisitos específicos. |
Ventaja del producto
01Alta pureza química
02Bajo contenido de gas
03Cerca del 100% de densidad
04Cereales uniformes
05Estructura interna densa y homogénea
En el caso de los metales específicos, se presentan algunos detalles:
1Titanio: los objetivos de pulverización de titanio se utilizan comúnmente en aplicaciones de PVD y revestimiento por evaporación para depositar películas delgadas en una variedad de sustratos.El titanio es un material muy utilizado en recubrimientos porque es biocompatible y tiene excelentes propiedades mecánicas
2Aluminio: los objetivos de pulverización de aluminio también se utilizan en aplicaciones de revestimiento por PVD y evaporación, especialmente en la producción de revestimientos reflectantes y componentes electrónicos.Los recubrimientos de aluminio tienen una buena conductividad eléctrica y son altamente reflectantes, por lo que son ideales para su uso en aplicaciones ópticas y electrónicas.
3.Cromo: los objetivos de pulverización de cromo se utilizan en aplicaciones de revestimiento PVD y evaporación para una variedad de fines industriales y decorativos, incluida la producción de recubrimientos decorativos,componentes para automóviles, y componentes electrónicos.
4.Zirconio: los objetivos de pulverización de zirconio se utilizan comúnmente en aplicaciones de revestimiento de PVD y evaporación por su alto punto de fusión y excelente resistencia a la corrosión.Los recubrimientos de circonio se utilizan comúnmente en la producción de recubrimientos decorativos y componentes electrónicos de alto rendimiento.
5. Níquel: los objetivos de pulverización de níquel se utilizan ampliamente en aplicaciones de revestimiento por PVD y evaporación, especialmente en la producción de películas finas magnéticas y recubrimientos para componentes electrónicos.Los recubrimientos de níquel también se utilizan comúnmente en aplicaciones decorativas.
6Niobio: los objetivos de pulverización de niobio se utilizan en aplicaciones de revestimiento por evaporación y PVD por su alto punto de fusión, bajo coeficiente de expansión térmica y excelente resistencia química.Los recubrimientos de niobio se utilizan comúnmente en la producción de componentes electrónicos de alto rendimiento y recubrimientos ópticos.
7.Tántal: los objetivos de pulverización de tántalo se utilizan en aplicaciones de revestimiento de PVD y evaporación por su alto punto de fusión, excelente resistencia química y baja presión de vapor.Los recubrimientos de tántalo se utilizan comúnmente en la producción de condensadores, componentes electrónicos e implantes médicos.
8.Molibdeno: los objetivos de pulverización de molibdeno se utilizan en aplicaciones de revestimiento por evaporación y PVD por su alto punto de fusión, bajo coeficiente de expansión térmica,y excelente conductividad eléctricaLos recubrimientos de molibdeno se utilizan comúnmente en la producción de componentes electrónicos de alto rendimiento y recubrimientos ópticos.