El horno para semiconductores Serie SEO presenta un ajuste PID de alta capacidad con excelente estanqueidad para entornos llenos de nitrógeno. Diseñado para el curado de obleas de semiconductores, paquetes de circuitos integrados y sustratos de vidrio, este horno ofrece una uniformidad y estabilidad de temperatura superiores.

• Recirculación de aire horizontal: El sistema de alta capacidad asegura una uniformidad de temperatura superior
• Cámara totalmente sellada: Construcción de acero inoxidable con excelente estanqueidad para la eficiencia del nitrógeno
• Motor de alta temperatura: Motor de eje largo con grandes aspas de turbina para un funcionamiento estable a alta temperatura
• Control de precisión: Ajuste PID con una precisión de 0.5℃ y perfiles de proceso programables
• Compatibilidad con sala blanca: Cumple con los estándares de sala blanca de grado mil para la producción de semiconductores
• Control de oxígeno: El análisis de doble canal mantiene el contenido de oxígeno por debajo de 50PPM

Cuenta con sistemas de circulación de aire caliente superior e inferior con flujo de aire ajustable. Construido con acero inoxidable de alta calidad y soportes en capas para una utilización óptima del espacio.

Equipado con múltiples medidores de flujo y analizadores de oxígeno para el monitoreo en tiempo real. Mantiene el contenido de oxígeno por debajo de 500PPM (opción para 100PPM).

La refrigeración por agua con tecnología de explosión de radiador de aletas reduce el tiempo de refrigeración al tiempo que evita daños al producto por cambios rápidos de temperatura.

Incluye protección contra sobretemperatura, monitoreo del contenido de oxígeno, alarmas de presión de nitrógeno, cerraduras de seguridad electrónicas e interruptor de parada de emergencia.

La concentración de partículas ≤35,200 (0.5μm) cumple con los estándares de sala blanca de clase mil.

El control de temperatura de alta precisión con regulación PID asegura una distribución uniforme del calor.