Introducción de la placa portadora de SiC

La placa portadora de SiC es un sustrato de soporte de precisión hecho de carburo de silicio de alta pureza.y resistencia excepcional a la corrosión químicaCon una superficie maquinada y pulida con precisión, las placas portadoras de SiC se utilizan ampliamente en el procesamiento de obleas, la epitaxia MOCVD, el recocido a alta temperatura y otras aplicaciones exigentes.Comparado con los materiales tradicionales como el cuarzo o el AlNEl SiC proporciona una estabilidad térmica superior y una vida útil prolongada.

Principio de trabajoDe placas portadoras de SiC

En procesos de alta temperatura, la placa portadora de SiC sirve de soporte para transportar obleas o materiales de película delgada.Mejora de la estabilidad y uniformidad del procesoAdemás, debido a su dureza e inertitud química, la placa mantiene la integridad estructural incluso en ambientes corrosivos, garantizando la pureza del producto y la seguridad del equipo.

Aplicaciones típicasDe placas portadoras de SiC

• Apoyo de sustrato en la epitaxia de MOCVD
• Procesamiento térmico de semiconductores de banda ancha como SiC y GaN
• Procesos de recocido, sinterización y difusión para obleas
• Dispersores y portadores de calor en la fabricación de chips LED
• Transporte y soporte de materiales en ambientes de alto vacío o corrosivos

Pregunta y respuestaDe placas portadoras de SiC

P1: ¿Cuál es la temperatura máxima de funcionamiento de las placas portadoras de SiC?
R: Las placas de SiC suelen soportar temperaturas de hasta 1600 °C o más, dependiendo del entorno de procesamiento y la duración.

P2: ¿Cómo se compara el SiC con el AlN o los portadores de cuarzo?
R: El SiC ofrece una mayor conductividad térmica, una resistencia superior al choque térmico y una vida útil más larga, lo que lo hace ideal para aplicaciones duras y de uso repetido.

P3: ¿Se puede personalizar el tamaño y la forma?
R: Sí, ofrecemos tamaños, espesores, patrones de agujeros y acabados de superficie personalizados para satisfacer sus requisitos específicos de equipos y procesos.

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