Especificaciones
Número de modelo :
Objetivo de tungsteno
Cantidad mínima de pedido :
negocie
Condiciones de pago :
L/C, D/A, D/P, T/T
Capacidad de suministro :
10000sets/month
Tiempo de entrega :
30 días después de recibir el pago inicial
Detalles del embalaje :
Cartones de exportación estándar
Nombre :
Objetivo de tungsteno
Forma de las piezas :
En redondo
El material :
TUNGSTENO
Composición química :
99,97%
Condición superficial :
torneado, de tierra, puliendo o pulido del espejo
Aplicación :
Revestimiento por pulverización
Descripción

Meta de tungsteno de alta pureza 99,97% para el recubrimiento por pulverización

 

Introducción


1El objetivo de pulverización de tungsteno adopta las técnicas mejor demostradas, incluida la fluorescencia de rayos X (XRF), la espectrometría de masas de descarga de brillo (GDMS) y el plasma acoplado inductivamente (ICP);
2El objetivo de tungsteno de Achemetal se proporciona con una alta pureza de hasta 99,97%, densidad de 18,8-19 g/cm3, estructura de organización homogénea y grano fino;
3Nuestro objetivo de pulverización de tungsteno ha sido aprobado por la ASTM B 760-2007 y GB 3875-2006.

 

Parámetro

 

OD (mm)

Identificación en mm

Duración ((mm)

Hecho a medida

140 a 300

120 a 280 años

100 a 3300

 

 

Número de modelo

W1

Forma de las piezas

personalizado

Composición química

99.95% de agua

 

Características

 

1. Alta densidad
2. Alta resistencia al desgaste
3Alta conductividad térmica con bajo coeficiente de expansión térmica

 

Especificación

 

Número atómico

74

Número CAS

7440-33-7

Masa atómica

183.84 [g/mol]

Punto de fusión

3420 °C

Punto de ebullición

5555 °C

Densidad a 20 °C

19.25 [g/cm3]

Estructura de cristal

Cubo centrado en el cuerpo

Coeficiente de expansión térmica lineal a 20 °C

4.410-6[m/mK]

Conductividad térmica a 20 °C

Se aplicará el procedimiento siguiente:

Calor específico a 20 °C

0.13 [J/gK]

Conductividad eléctrica a 20 °C

18.2106[S/m]

Resistencia eléctrica específica a 20 °C

0.055 [(mm2) /m]

 

Las aplicaciones

 

el semiconductor

deposición de vapor químico (CVD)

Display de deposición física de vapor (PVD)

 

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Alta pureza 99,97% de tungsteno Condición de la superficie del suelo objetivo para el recubrimiento de pulverización

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Alta pureza 99,97% de tungsteno Condición de la superficie del suelo objetivo para el recubrimiento de pulverización
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Luoyang Hypersolid Metal Tech Co., Ltd

Active Member
3 Años
luoyang
Desde 2021
Total anual :
7000000-14000000
Número de empleados :
100~120
Nivel de certificación :
Active Member
Proveedor de contacto
Requisito de presentación