1,Descripción:

1. Material: Molybdenum Sputtering Target está hecho de molibdeno, un metal refractario conocido por su alto punto de fusión, excelente conductividad térmica y eléctrica, y resistencia a la corrosión.El molibdeno se utiliza ampliamente en aplicaciones de pulverización.

2. Forma y estructura: Los objetivos de pulverización de molibdeno suelen tener forma de disco o rectangular.Los objetivos pueden ser sólidos o unidos a una placa de soporte para un apoyo adicional.

3. Alta pureza: Los objetivos de pulverización de molibdeno están disponibles en grados de alta pureza, lo que garantiza una mínima cantidad de impurezas que podrían afectar la calidad de las películas delgadas.La alta pureza es crucial para las aplicaciones en la fabricación de semiconductores, revestimientos ópticos y investigación de películas finas.

4. Rendimiento de pulverización: los objetivos de pulverización de molibdeno presentan un excelente rendimiento de pulverización, lo que permite la deposición de películas finas de alta calidad.erosión uniforme, y altas tasas de deposición, lo que resulta en un espesor de película preciso y constante.

5. Conductividad térmica y eléctrica: Los objetivos de pulverización de molibdeno tienen una alta conductividad térmica y eléctrica, lo que facilita una disipación de calor eficiente durante el proceso de pulverización.Esto ayuda a mantener la integridad del objetivo y asegura un rendimiento de pulverización estable.

6. Resistencia a la corrosión: Los objetivos de pulverización de molibdeno poseen una buena resistencia a la corrosión, lo que los hace adecuados para su uso en varios entornos y procesos de pulverización.Pueden soportar los gases reactivos y las condiciones de plasma encontradas durante la pulverización.

2Las especificaciones: