Horno de Mufla de Vacío Eléctrico para Tratamiento Térmico de Laboratorio para Sinterización y Recocido
Especificaciones del Producto
Atributo |
Valor |
Rango de Aplicaciones |
Industrial |
Tipo |
Horno Eléctrico de Mantenimiento |
Uso |
Moldeo de Acero |
Combustible |
Eléctrico |
Atmósfera |
Vacío |
Dimensiones Efectivas |
Ø250 × 500mm |
Nivel Máximo de Vacío |
5×10-4PA |
Paquete de Transporte |
Embalaje de Madera |
Especificación |
1200mm × 1700mm × 2200mm (Ancho×Alto×Profundidad) |
Marca Registrada |
Chitherm |
Origen |
China |
Código HS |
8514101000 |
Capacidad de Producción |
50 juegos/año |
Solución de Tratamiento Térmico al Vacío de Grado Industrial
El Horno de Tratamiento Térmico al Vacío CHITHERM HTF2550-07 ofrece un procesamiento térmico de precisión con un nivel máximo de vacío de 5×10-4PA, diseñado para aplicaciones industriales exigentes.
Perfil del Fabricante
Hefei CHITHERM Equipment Co., Ltd. se especializa en la investigación, desarrollo y fabricación de hornos de tratamiento térmico industrial y sistemas de hornos experimentales. Nuestra completa línea de productos incluye:
- Hornos de Campana
- Secadores de Aire Caliente
- Hornos de Caja
- Hornos Tubulares
- Hornos de Vacío
- Hornos de Carro
- Hornos Rotatorios
- Hornos de Banda de Malla
- Hornos de Placa de Empuje
Aplicaciones Industriales
Nuestro equipo sirve para procesos críticos en sectores de fabricación avanzada, incluyendo:
- Producción de cerámica avanzada
- Fabricación de componentes electrónicos
- Procesos de metalurgia de polvos
- Desarrollo de materiales para nuevas energías
- Procesamiento de materiales fotovoltaicos
Parámetros Técnicos
- Rango de Temperatura: Nominal 500°C | Máximo 700°C
- Material del Tubo: Construcción de sílice fundida
- Uniformidad de la Temperatura: Precisión de ±2°C
- Calentamiento de 3 Zonas: Configuración de 300+300+300mm
- Especificaciones de Potencia: Calentamiento de 24kW | <8kW aislamiento
- Rendimiento de Vacío: Máximo de 5×10-4Pa | Nivel de trabajo de 1×10-3Pa
- Sistemas de Seguridad: Alarmas completas para temperatura, vacío, presión y fallas eléctricas
Aplicaciones de Proceso Típicas
Este horno es particularmente adecuado para:
- Sinterización y recocido al vacío de componentes electrónicos
- Procesamiento de obleas de semiconductores
- Tratamiento térmico de materiales objetivo ITO
- Procesamiento de cerámica MLCC/HTCC/LTCC
- Preparación de material de electrodo de batería de litio