El Horno de Deposición Química en Fase Vapor (CVD) Tipo MBF100-10 está diseñado para el tratamiento térmico a temperatura media de productos electrónicos. Realiza procesos de reacción en fase gaseosa en atmósferas de nitrógeno, helio, acetileno e hidrógeno, y también se puede utilizar para procesos de sinterización en atmósferas protectoras.

• Temperatura Nominal: 750°C
• Temperatura Máxima: 1000°C
• Dimensiones de la Zona de Calentamiento: 770 × 770 × 300 mm (An × Pr × Al)
• Dimensiones Efectivas: 640 × 640 × 250 mm (An × Pr × Al)
• Material de la Cámara Exterior: SUS310S
• Material del Revestimiento Interior: Cuarzo Fundido
• Tamaño del Producto: Φ120
• Capacidad del Equipo: 16 sustratos por lote
• Potencia Máxima de Calentamiento: 16 kW
• Método de Calentamiento: Fondo + Cuatro Lados
• Puntos de Control de Temperatura: Fondo + Lado
• Tipo de Termopar: Tipo K
• Velocidad de Calentamiento: ≤8°C/min
• Elementos Calefactores: Calentadores de Fibra Cerámica FEC
• Método de Apertura de la Puerta del Horno: Diseño de Apertura Superior
• Estabilidad del Control de Temperatura: ±1°C
• Instrumento de Control de Temperatura: Controlador PID Importado con Función de Auto-Ajuste
• Pasos del Programa: 20 pasos
• Alarma y Protección: Alarmas de sobretemperatura, rotura de termopar con protección de apagado
• Aumento de Temperatura de la Superficie: <35°C
• Peso: aproximadamente 500 kg
• Dimensiones del Horno: aproximadamente 1200×1200×1500mm (An×Al×Pr)

• Condiciones ambientales: Temperatura 0 - 40°C, humedad ≤ 80% HR, sin gases corrosivos, sin fuertes perturbaciones del flujo de aire
• Requisitos del suelo: Nivelado, sin vibraciones obvias, capacidad de carga > 500Kg/m²
• Condiciones de alimentación: Capacidad superior a 22kVA, 3 fases 5 líneas, voltaje 220/380V, frecuencia 50Hz
• Sitio de instalación: 1500mm×1500mm×3000mm (An×Al×Pr), área de instalación superior a 2.5m²