El horno de deposición en fase de vapor tipo tanque HWF6630-10 está diseñado para el tratamiento térmico a temperatura media de productos electrónicos. Admite procesos de reacción en fase de vapor en atmósferas de nitrógeno, acetileno e hidrógeno, así como procesos de sinterización en atmósferas protectoras. Equipado con un sistema de monitoreo por computadora en tiempo real, este horno es ideal para pruebas de procesos de materiales en entornos de investigación.

• Modelo: HWF6630-10
• Temperatura de Funcionamiento: 750°C
• Temperatura Máxima: 1000°C
• Tamaño Efectivo de la Cámara: Φ600×300mm (D×H)
• Elemento Calefactor: Calentamiento interno con tubos calefactores de acero inoxidable
• Atmósfera de Procesamiento: Nitrógeno, Hidrógeno, Acetileno
• Método de Calentamiento: Calentador de fibra cerámica FEC
• Puntos de Control de Temperatura: 2
• Estabilidad de la Temperatura: ±1°C, con función de autoajuste de parámetros PID
• Método de Control: Pantalla táctil + control centralizado PLC
• Protección de Alarma: Alarmas audibles y visuales por sobretemperatura y rotura de termopar
• Velocidad de Calentamiento: ≤6°C/min
• Potencia de Calentamiento: 16kW
• Requisitos de Alimentación: 3 fases, 5 hilos, 220/380V, 50Hz
• Dimensiones Externas: 1185×1745×1780mm (An×Al×P)

• Condiciones Ambientales: Temperatura 0~40°C, humedad ≤80% HR, sin gases corrosivos
• Requisitos del Suelo: Nivelado, sin vibraciones significativas, capacidad de carga >500 kg/m²
• Requisitos de Alimentación: Capacidad >22 kVA, 3 fases, 5 hilos, 220/380V, 50Hz
• Espacio de Instalación: 1500 mm × 1500 mm × 3000 mm (P × A × H)