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PVD recubrimiento blanco de pulverización de tántalo para el recubrimiento de semiconductores y recubrimiento óptico
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Especificaciones
Número de modelo :
de costumbre
Lugar de origen :
China
Cantidad mínima de pedido :
1 por ciento
Condiciones de pago :
T/T
Capacidad de suministro :
5tons/month
Tiempo de entrega :
Entre 5 y 7 días
Detalles del embalaje :
caja de madera contrachapada
Nombre :
Objetivo de recubrimiento PVD de tántalo
Grado :
Se aplicará el método de cálculo de las emisiones de gases de efecto invernadero.
Purificación :
el ≥99.95%
Densidad :
160,68 g/cm3
Superficie :
Superficie trabajada a máquina
Estándar :
Las demás partidas
Estado de la entrega :
con anillado
Forma de las piezas :
Objetivo plano Objetivo giratorio Personalización de forma especial
Descripción

Información sobre el producto:

 

Nombre Objetivo de tóntalo para revestimiento PVD
Grado Se aplicará el método de cálculo de las emisiones de gases de efecto invernadero.
Purificación ≥ 99,95%
Densidad 16.68 g/cm3
Superficie Superficies mecanizadas, sin agujeros, arañazos, manchas, burros y otros defectos
Estándar Las demás partidas
Forma de las piezas Objetivo plano, objetivo giratorio, personalización de forma especial

 

PVD recubrimiento blanco de pulverización de tántalo para el recubrimiento de semiconductores y recubrimiento ópticoPVD recubrimiento blanco de pulverización de tántalo para el recubrimiento de semiconductores y recubrimiento óptico

 

Contenido químico del blanco de tántalo para revestimiento de PVD:

 

Grado Principales elementos 　 Contenido de impurezas inferior al %
　 - ¿ Qué? Nb Fe Sí, sí. ¿ Qué? No ¿ Qué pasa? Ti Nb ¿ Qué? C. Las H. No
T1 Quédate. ¿Qué quieres decir? 0.005 0.005 0.002 0.01 0.01 0.002 0.04 0.02 0.01 0.0015 0.01
Ta2 Quédate. ¿Qué quieres decir? 0.03 0.02 0.005 0.04 0.03 0.005 0.1 0.03 0.01 0.0015 0.01
Se trata de: Quédate. Se trata de un5 0.03 0.03 0.005 0.04 0.03 0.005 ¿Qué quieres decir? 0.03 0.01 0.0015 0.01
TANb20 Quédate. 17.0 ¢ 23.0 0.03 0.03 0.005 0.04 0.03 0.005 ¿Qué quieres decir? 0.03 0.01 0.0015 0.01
Ta2,5 W Quédate. 　 0.005 0.005 0.002 3 0.01 0.002 0.04 0.02 0.01 0.0015 0.01
T10W Quédate. 　 0.005 0.005 0.002 11 0.01 0.002 0.04 0.02 0.01 0.0015 0.01

 

Características del objetivo de tántalo PVD:

 

Punto de fusión alto,
Baja presión de vapor,
Buen rendimiento en frío,
Alta estabilidad química,
Resistencia fuerte a la corrosión del metal líquido,
La película de óxido de superficie tiene una constante dieléctrica grande

 

Aplicación:

 

El objetivo de tántalo y el objetivo de cobre se soldan, y luego se realiza una pulverización de semiconductores u ópticos,y los átomos de tántalo se depositan en el material del sustrato en forma de óxidos para lograr un recubrimiento de pulverizaciónLos objetivos de tántalo se utilizan principalmente en el recubrimiento de semiconductores, recubrimiento óptico y otras industrias.El metal (Ta) se utiliza actualmente principalmente para revestir y formar una capa de barrera a través de la deposición física de vapor (PVD) como material objetivo.

 

Podemos procesar de acuerdo con el dibujo del cliente, y producir Ta varilla, placa, alambre, papel, crisol, etc.

 

 

Por favor envíenos una consulta para más información.

 

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Tiempo de entrega :
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Shaanxi Peakrise Metal Co.,Ltd

Site Member
4 Años
Shaanxi, baoji
Desde 2010
Tipo de empresa :
Manufacturer, Exporter
Productos principales :
Aleación del tungsteno del molibdeno, Aleación ferro- del tungsteno, Aleación de cobre del tungsteno
Total anual :
1000000-5000000
Número de empleados :
20~50
Nivel de certificación :
Site Member
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