La implantación de ion es un proceso a baja temperatura con el cual los iones de un elemento se aceleran en una blanco sólida, de tal modo cambiando las propiedades de la comprobación, químicas o eléctricas de la blanco. La implantación de ion se utiliza en la fabricación del dispositivo de semiconductor, el tratamiento de superficie de metal y la investigación de la ciencia material.

El implanter del ion es el equipo dominante en la fabricación del circuito integrado. Cuando los haces iónicos que son tirados sobre la superficie del semiconductor y depositados, la concentración de portador y el tipo de la conducción se cambian. Poseyendo a su modificación superficial excelente, la implantación de ion se aplica extensamente en material semi que conduce, metal, cerámica, polímero de molecularidad elevada, la implantación de ion del etc. es esencial en la fabricación del circuito integrado masivo (IC). Las piezas del molibdeno son componentes claves en el sistema de la fuente de ion de implanter del ion del semiconductor para refrenar y para proteger el componente de la implantación de ion del rayo de ionización. .molybdenum para el implanter del ion.

Especificación y composiciones químicas

Ventajas de las piezas de la implantación de ion del tungsteno

(1) la capa de la implantación de ion no tiene ningún interfaz obvio con el material de matriz, tan no hay fractura de la adherencia o peladura en la superficie, y se enlaza firmemente con la matriz.

(2) la implantación de ion puede controlar exactamente la distribución de la concentración y de la profundidad de iones implantados controlando la dosis de la implantación, la energía de la implantación y la densidad del haz.

(3) la implantación de ion se realiza generalmente en temperatura ambiente y vacío. La superficie trabajada a máquina del objeto está invisible y libre de la oxidación. Puede mantener la exactitud dimensional original y la aspereza superficial. Es especialmente conveniente para el proceso final de piezas de alta precisión.

(4) el esfuerzo de compresión se puede formar en la capa superficial del objeto para reducir las grietas superficiales.

(5) se adoptan el alto vacío limpio y el proceso y los materiales no tóxicos, la temperatura del tratamiento es baja, y el funcionamiento total del material que se tratará no se afecta.

Uso: recambios del implanter del ion del tungsteno para el semiconductor
1. La mayoría de las piezas del tungsteno para la implantación de ion se utilizan en la industria del semiconductor;
piezas del tungstem de la producción 2.We para la implantación de ion con alta densidad, pureza y exactitud y estructura interna homogénea;
3. Nuestras piezas del tungsteno para la implantación de ion son convenientes para el implanter actual del haz moderado y el implanter actual del haz fuerte;
4. las piezas del tungsteno para la implantación de ion se hacen según el dibujo del cliente.