El horno de deposición de vapor se puede utilizar para calentar y vaporizar halogenuros metálicos, compuestos orgánicos metálicos,hidrocarburos y otras fuentes de reacción bajo presión específica para generar sedimentos sólidos en la superficie del material objetivoTambién se utiliza para la deposición química de vapor de materiales compuestos con gas de hidrocarburos (como C3H8, etc.) como fuente de carbono, como materiales compuestos C / C, materiales compuestos SiC, CVD,Procesamiento del CVI.

Características:

1) A temperatura media o alta, se forma material sólido y se deposita en la matriz a través de la reacción química en fase gaseosa entre los compuestos iniciales en fase gaseosa.

2) Puede depositarse bajo presión atmosférica o condiciones de vacío (deposición a presión negativa, generalmente la calidad de la película de deposición al vacío es mejor).

3) El uso de plasma y tecnología asistida por láser puede promover significativamente la reacción química, de modo que la deposición se puede llevar a cabo a una temperatura más baja.

4) La composición química del revestimiento puede cambiar con el cambio de la composición de la fase gaseosa, de modo que se obtenga un sedimento de gradiente o un revestimiento mixto.

5) Puede controlar la densidad del revestimiento y la pureza del revestimiento.

6) alrededor de las piezas revestidas. Puede ser recubierto en matriz de forma compleja y material granular. Adecuado para el recubrimiento de todo tipo de formas complejas de la pieza de trabajo.puede ser recubierto con ranuras, ranuras, agujeros e incluso agujeros ciegos de la pieza de trabajo.

7) La capa depositada suele tener una estructura cristalina de columna y no es resistente a la flexión.pero su estructura puede ser mejorada por perturbación de la fase gaseosa de la reacción química a través de varias técnicas.

8) puede formar una variedad de revestimientos metálicos, de aleación, cerámicos y compuestos mediante diversas reacciones.