Diamante CVD policristalino
La deposición química de vapor (CVD) es un proceso que utiliza sustancias gaseosas o vaporosas en la fase gaseosa o reacción de interfaz gas-sólido para generar depósitos de estado sólido.se activa un gas que contiene carbono para crear átomos de carbono sobre saturados en el sustrato (cristales de semilla)Este método implica una serie de reacciones químicas durante la activación y deposición de la fuente de carbono.
Características del producto
- Sin aditivos metálicos o no metálicos
- Alta dureza y resistencia al desgaste con fácil procesamiento
- Excelente conductividad térmica y transmisión de ondas electromagnéticas de banda completa
- Químicamente estable contra la corrosión ácida y alcalina
- Servicios de personalización disponibles
- Las especificaciones estándar incluyen Φ50.8×0.3mm, Φ50.8×0.4mm, Φ25.4×0.3mm, Φ25.4×0.4mm, con dimensiones personalizadas disponibles
Propiedades del producto
Propiedades ópticas
Alcance de transmisión útil |
Transmisión de onda electromagnética en banda completa |
Indice de refracción |
2.41@5900A |
Propiedades físicas
Densidad |
3.52 g/cm3 |
Velocidad sónica |
> 16 000 m/s |
Propiedades térmicas
Conductividad térmica |
800 ~ 2000 W/m*k |
Propiedades mecánicas
Módulo de Young |
> 1.000 GPa |
Dificultad (Knoop) |
> 8 000 kg/mm2 |
Resistencia a las fracturas |
5 ~ 7 Mpa |
Energía de fractura |
25 J/M |
Fuerza de flexión |
500 a 1.000 MPa |
Resistencia a la compresión |
9 GPa |
Coeficiente de fricción |
0.1 (en relación con el acero) |
Propiedades químicas
Inertitud química |
Insoluble en todos los ácidos y bases a temperatura ambiente |