Diseñada con precisión para entornos sensibles a la contaminación, esta válvula de gas más ligera de una pulgada controlada por partículas garantiza la integridad en sistemas críticos de distribución de gas. Con acero inoxidable 316L-VAR con acabado electropulido <0.5 Ra µm, esta válvula de gas de alta pureza alcanza los estándares de partículas Clase 1/ISO 2 para gases de proceso de semiconductores. El diseño de sellado cónico autoalineable elimina el contacto metal con metal, evitando la generación de partículas durante más de 100,000 accionamientos. Como una válvula de gas de laboratorioesencial, incorpora sellos faciales estilo VCR para una integridad hermética al helio de 1x10⁻⁹ atm-cc/seg He, manteniendo la pureza a nivel de ppb para gases especiales como arsina y silano. Los sellos de vástago de PTFE que no desprenden partículas y la configuración de cero tramo muerto cumplen con los estándares SEMI F72. Incluye puertos integrales de monitoreo de partículas para la verificación in situ del cumplimiento de la norma ISO 14644-1 Clase 3 durante la instalación.

Viñetas:
✓ Limpieza a nanoescala: <5 particles>0.1μm por litro (por IEST RP CC001.6)
✓ Sellado hermético a las burbujas: Tasa de fuga de helio de 1x10⁻⁹ atm-cc/seg
✓ Inmunidad a la corrosión: Pasiva según el método de ácido nítrico ASTM A967
✓ Funcionamiento sin vibraciones: Diseño de vástago antirresonancia
✓ Probada en fábrica: Cumple con SEMI F72 válvula de gas de laboratorio

Escenario de aplicación:
En una sala limpia de semiconductores, los técnicos instalan válvulas utilizando contadores de partículas para verificar la ausencia de contaminación durante la puesta en marcha de la línea de gas para la fabricación de chips de 5 nm.

Preguntas frecuentes:

P: ¿Qué certificación de partículas viene con esta válvula de gas de alta pureza?
R: Informes IEST-CC0016 Clase 1 con datos de distribución de partículas de 0.1-5.0μm.

P: ¿Son sus válvulas de gas de laboratorio compatibles con dopantes tóxicos?
R: Sí, diseñadas para gases SEMI S2 Categoría 1 con compatibilidad total de materiales.

P: ¿Puedo integrar el monitoreo de partículas sin interrupción del proceso?
R: Sí, los puertos de muestra permiten la verificación in situ conforme a la norma ISO 14644-1.

P: ¿Cuál es el rendimiento de desgasificación?
R: <1x10⁻⁹ g/cm²/seg TML/CVCM según NASA-STD-6001B.

P: ¿Proporcionan protocolos de control de contaminación para la instalación?
R: Kits de instalación detallados que cumplen con la norma ISO 14644-5 disponibles.